如何战胜辐辉级BOSS-无上辐光（双修流）?

无上辐光大致可以分成五个阶段。

第一阶段：

　　基本上就是各种不同的弹幕攻击，只能见招拆招。

1.追踪光弹

　　在随机位置放出大约3~5颗不等的追踪光弹，在熟悉如何诱导弹道后，最好能让光弹早早撞到地面消失。

　　不然光弹飞越久越危险，因为有可能和其他攻击重叠，如果闪躲技巧高超，可以把握机会攻击。

2.放射光束

　　射出三波光束，第一发比较吃反应时间，不过后续二三发不会射在前一波的相同位置上，利用这点来闪躲。

3.放射剑幕

　　射出两波剑幕，站远一点的话反应时间应该会比较多。

　　要注意的是射出来的剑会稍微偏上或偏下的弧线移动。

4.垂直或水平的剑幕

　　垂直的剑幕有四波，就靠小心左右移动进剑之间的空隙闪躲。

　　水平的剑幕有三波，用暗影冲刺或选择宽大的空隙冲过，得注意冲刺的冷却时间。

　　如果觉得灵魂充足的话也可以用俯冲法术的无敌时间闪过，不过我通常会等到第三阶段再用法术闪躲...理由后述。

5.光之壁

　　从画面左或右边出现的光之壁，有可能会出现假动作，光之壁移动到一半突然消失并从相反方像移动而来。

　　而且似乎有低机率出现两次以上的假动作，只能用暗影冲刺或俯冲法术闪躲，不过我一样会等到第三阶段才开始用俯冲法术。

6.地刺

　　在前期时血量消到一定程度时会在地面召唤覆盖左半或右半场地的尖刺，限制玩家的行动范围，每隔一段时间换边。

第二阶段：

　　当血量消够时，半个场地的尖刺会变成固定在平台两端的尖刺，辐光会瞬移到场地中间，召唤无数波垂直剑幕。

　　需要小心在他开始上面的动作前可能还会持续几次第一阶段的攻击，尽量保持在差不多中间的位置，一边微调左右位置一边上斩辐光。

第三阶段：

　　是第一阶段的变化版，但因为场地变成小平台，不像第一阶段好闪躲，所以在这阶段，特别是横向攻击（剑幕、光之壁）和其他攻击同时施展的话危险度大增，只要有疑虑，尽量用俯冲法术闪躲。

　　另外可以尽量待在下层的平台，光弹在那里容易先撞平台而消失，这阶段比较需要耐心，辐光有可能在瞬移后立刻开始光束或剑幕攻击，所以不建议立刻冲上去砍，也不能贪刀，等他传送到方便打的地方再开打。

1.追踪光弹

　　因为闪躲空间受限，多多利用二段跳来引光弹去撞小平台。

2.放射光束

　　闪躲绝窍和第一阶段差不多，不过这阶段平台有些宽有些窄。

　　可以的话避免在窄平台上闪光束，因为能左右移动的空间很有限。

3.放射剑幕

　　和第一阶段差不多，记得保持距离。

4.水平剑幕

　　这阶段只有水平剑幕，而且只有两波，不过和其他攻击（如光之壁）一起搭配时更致命，建议法术砸地板。

5.光之壁

　　大致上同第一阶段，和其他攻击（如水平剑幕）一起搭配时更致命，建议法术砸地板。

第四阶段：

　　爬天梯，进入这阶段后辐光会向上飞，左右两侧的平台消失，新的平台向高处延伸。

　　攀登时辐光会不断射光束，攀越高时瞄的越准，小心控制攀登的节奏，避免一跳就想上下个平台，保留一点点距离，确定光束没有射准再移动。

　　必要时别吝啬使用暗影冲刺来闪躲光束。

第五阶段：

　　最后阶段只剩两个小平台，辐光会在左中右三个位置瞬移，同时用在随机位置生成的追踪光弹攻击。

　　多用二段跳将光弹引向萤幕上方，飞出去差不多就等于不见了，同时用下斩攻击辐光，总之尽可能保持在高处，我甚至看过有人干脆完全不站平台了。